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最終更新日:2016-05-20 15:34:00.0

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両面同時露光マスクアライナー『BS320』

基本情報両面同時露光マスクアライナー『BS320』

ウェハ表裏同時露光!セミオート動作で中ロット生産に対応

両面同時露光マスクアライナー『BS320』は、研究開発から小中ロット製造用
として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。

一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、
シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。
二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。

また、二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもあり、
セミオート動作で中ロット生産に対応しているので
お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■最大φ4インチウェハ対応
■コンパクト設計
■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能
■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易
■ウェハ位置決めガイド搭載(オプション) 他

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』 製品画像

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。

一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。
二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。

お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■最大φ4インチウェハ対応『BS425』
■最大φ6インチウェハ対応『BS620』
■コンパクト設計
■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能
■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易
■ウェハ位置決めガイド搭載(オプション) 他

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

取扱会社 両面同時露光マスクアライナー『BS320』

株式会社ナノテック

半導体製造装置 マスクアライナー、スピンナー、デベロッパーの開発・販売。 MEMS マイクロマシン開発支援装置の開発・販売。 医療用光学器械、手術用顕微鏡、内視鏡

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