PICOSUN JAPAN株式会社

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PICOSUN JAPAN株式会社企業イメージ

成膜の最先端、ALD（原子層堆積）法。その最先端のソリューションをPICOSUN JAPANが提供します。

フィンランドPicosun Oy社の日本法人です。
同社ALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に2016年4月より営業を開始いたしました。

フィンランド Picosun oy 社は、2022年6月16日をもちまして米国 Applied Materials 社に株式を譲渡いたしました。
日本法人である弊社は、Applied Materials グループの一企業として当面の間現在の形態のまま事業を継続し、引き続き皆さまのご要望に応えてまいります。

フィンランドPicosun oy社
・ Dr.Tuomo Suntola（ALD法の発明者）がボードメンバー、技術顧問
・設立：1997年

1974年から世界で初めてALDの技術開発に携わったメンバーがコアとなって設立された会社です。ALDの技術開発においては世界で最も古く、40年以上の経験を持つALD装置の専業メーカーです。
PICOSUN社装置の設計開発は15世代に渡っており、試行錯誤を経て現在では最も洗練されたALD装置を提供しております。

事業内容

■ALD成膜装置の製造・販売及びアフターサービス
ALD(Atomic Layer Diposition、原子層堆積)とは、真空を利用した成膜技術の一つです。ALDは既存のPVD/CVD成膜技術より、下記の点において優位性がある為、急速に市場に浸透してきています。

・優れた段差被覆性（付きまわり性）
・膜厚が１原子層レベル（約１Å＝0.1nm）で制御でき、膜厚分布が良い
・バリア性が高く膜質が良い
・比較的低温で処理可能

ALDの応用分野は、半導体・電子部品・燃料電池・リチウム電池・有機EL・太陽電池・ディスプレイ・LED・メディカル等です。
ALDが爆発的に普及するきっかけとなったのは、半導体メモリのゲート酸化膜形成ですが、その特性から、微細粉末／ナノパーティクルコーティング、MEMS等超小型部品の保護膜・絶縁膜としても使われています。
ワーク表面と共有結合するため密着性も良好で、他の皮膜との間の接着層としても機能します。
ドライプロセスのため、有機溶剤への作業者の暴露低減目的で既存のウェットプロセス代替としても検討されており、ナノレベル表面処理として幅広い分野で注目されています。