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最終更新日:2024-10-28 08:38:24.0

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掲載開始日:2024-10-28 00:00:00.0

技術トレンドキーワードに「エッチングとリフトオフの違い」を追加しました。

エッチングとリフトオフは、どちらもフォトリソグラフィに関連したプロセスですが、使用目的や処理方法が異なります。それぞれのプロセスとその違いについて説明します。

エッチング(Etching)

エッチングは、フォトリソグラフィでパターン化されたレジストをマスクとして使用し、そのパターンに従って材料を削り取るプロセスです。不要な部分を取り除くことで、基板表面に回路や構造を形成します。

1)主な目的: 不要な部分の材料を取り除いて、表面にパターンを彫刻する。

2)方法:
ドライエッチング(反応性イオンエッチングなど): 化学反応を伴うガスを使い、基板表面から材料を削り取ります。非常に精密な加工が可能です。

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エッチングとリフトオフは、どちらもフォトリソグラフィに関連したプロセスですが、使用目的や処理方法が異なります。それぞれのプロセスとその違いについて説明します。 エッチング(Etching) エッチング は、フォトリソグラフィでパターン化されたレジストをマスクとして使用し、そのパターンに従って材料を削り取るプロセスです。

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