●高価なフッ素系溶剤の使用量を削減しコストをカット
●超精巧な洗浄で0.2〜0.5μmのゴミも除去
超精密超音波洗浄機は各処理を減圧か状態で処理し、単一槽で洗浄から乾燥まで処理を行います。
減圧による洗浄液脱気効果で洗浄効果を上げながら、洗浄物を移動しない省スペースでの精密洗浄を可能とします。
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【主な７つの特徴】
１．フッ素系溶剤に最適で溶剤使用量を抑えランニングコストを削減します
２．超音波発振機の周波数が事前に選択が可能
25/28/40/65/70/80/120/170Hz
３．単一槽で洗浄から乾燥まで処理します
４．洗浄物を移動しない省スペース
５．減圧超音波洗浄を何度も繰り返しが出来る簡単レシピ
６．超音波洗浄中は上下揺動機能で洗浄ムラを解消
７．洗浄液は100%ろ過液を使用、槽内へ供給、循環・オーバーフローによる
ろ過循環洗浄で洗浄度をアップします
基本情報減圧式超音波洗浄装置
●高価なフッ素系溶剤の使用量を削減しコストをカット
●超精巧な洗浄で0.2〜0.5μmのゴミも除去
超精密超音波洗浄機は各処理を減圧か状態で処理し、単一槽で洗浄から乾燥まで処理を行います。
減圧による洗浄液脱気効果で洗浄効果を上げながら、洗浄物を移動しない省スペースでの精密洗浄を可能とします。
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【主な７つの特徴】
１．フッ素系溶剤に最適で溶剤使用量を抑えランニングコストを削減します
２．超音波発振機の周波数が事前に選択が可能
25/28/40/65/70/80/120/170Hz
３．単一槽で洗浄から乾燥まで処理します
４．洗浄物を移動しない省スペース
５．減圧超音波洗浄を何度も繰り返しが出来る簡単レシピ
６．超音波洗浄中は上下揺動機能で洗浄ムラを解消
７．洗浄液は100%ろ過液を使用、槽内へ供給、循環・オーバーフローによる
ろ過循環洗浄で洗浄度をアップします
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | CCD・CMOSセンサー、半導体ウェーハ、水晶部品、水晶ウェーハ、センサー部品、光学部品、液晶パネル、セラミック基板の洗浄、パーティクル除去 MEMSデバイスWafによる加速度センサー、ジャイロセンサー、プリンターヘッドなど深掘りエッチング処理後のデボ洗浄 |
カタログ減圧式超音波洗浄装置
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