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異種材料が混在する半導体基板の平坦化について、お客様のニーズに対応した…
当社はCMPスラリーを開発・製造しております。CMPとはChemical Mechanical Polishingの略で、化学的に溶解させながら機械的な除去、研磨を行います。付与する化学的作用は削りたい物質の化学的な...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トッパンインフォメディア
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