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    Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析

    【無料プレゼント】MIRS法を応用した新たなアプローチである製品をご紹…

    響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が ますます重要となっています。 当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの グループとの研究成果を製品化したものです。 【掲載内容】 ■はじめに ■Wafer ATR(ウェハーATR)  ・多重内部反射による感度の向...

    メーカー・取り扱い企業: ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部

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