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異種材料が混在する半導体基板の平坦化について、お客様のニーズに対応した…
CMPとはChemical Mechanical Polishingの略で、化学的に溶解させながら機械的な除去、研磨を行います。付与する化学的作用は削りたい物質の化学的な性質に依存します。 半導体銅配線用CMPスラリーは、先端デバイスの銅配線用として量産しており、大手エレクトロニクスメーカー様からパートナーとしての認定をいただくなど、高い信頼を得ている製品です。 また、最先端デバイス用C...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トッパンインフォメディア
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半導体デバイス、液晶パネル、磁気ヘッドなどの製品のプロセスに必要不可欠…
精密研磨フィルムは、半導体デバイス、液晶パネル、磁気ヘッドなどの電子部品の精密研磨に広く使われています。微粒子のダイヤモンド、アルミナ(WA)、シリコンカーバイド(GC)などの砥粒を、最適な研磨特性を発揮できるバインダー樹...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トッパンインフォメディア
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塗料製造技術、コーティング技術(塗布技術)、マイクロスリット加工技術、…
【塗料製造技術】 当社は高度な品質が要求される半導体製品を扱っており、長年にわたり高い品質を保持しております! 【コーティング技術(塗布技術)】 当社は最先端のエレクトロニクス製品のプロセスに必要不可欠な高性能精密研磨フィルムを長年製造して...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トッパンインフォメディア
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当社は各種スラリー/塗料の製造受託を行っております。製造でのお困りごと…
製造実績がしっかりした企業に依頼したい ・少量での試作を行いたい ・品質事故を改善したい ・クリーンルームで製造して欲しい ・不純物の分析も行いたい ⇩ 当社は高度な品質が要求される半導体製品を扱っており、長年にわたり高い品質を保持しております! ※当社HPに製造受託事例が記載されておりますので、ぜひご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トッパンインフォメディア
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