日本セミラボ株式会社 表面電荷分析装置 SCA2011
- 最終更新日：2020-07-17 08:56:06.0
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表面電荷分析装置
表面電荷分析装置は、半導体前工程管理とりわけ熱酸化膜、ＣＶＤ膜形成、メタライゼーション、洗浄及びエッチングなどプロセス中に生じた汚染とダメージのモニタリングに最適です。
基本情報表面電荷分析装置 SCA2011
ウェハー表面電荷量及び界面準位密度の測定
■酸化膜工程
・ウェハー汚染やプラズマ損傷による酸化膜中 電荷量の変化
・熱ストレス等による界面準位密度の変化
・窒化酸化膜中の固定電荷モニター
■洗浄工程管理
・ウェハー洗浄後の表面状態の電荷量チェック
■ＣＶＤ工程管理
・膜中トラップ電荷状態のチェック
| 価格情報 | お気軽にお問い合わせください。 |
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| 納期 |
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| 型番・ブランド名 | SCA-2011 |
| 用途／実績例 | ■非破壊リアルタイムプロセスモニター ・工程管理直後測定可能 ・電極形成不要 ・モニターウェハーの再生使用可能 ・高速測定 → ＜ １点／分 ・簡易操作 |
取扱企業表面電荷分析装置 SCA2011
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■半導体測定装置の輸入販売及び技術サービスの提供 ■下記製品の取り扱いをしています。 分光エリプソメーター 非接触シート抵抗測定装置 DLTS測定システム ナノインデンター AFM（原子間力顕微鏡） キャリア移動度測定装置 非接触CV測定装置 ライフタイム測定装置 フォトルミネッセンス 装置仕様や価格情報などお気軽にお問い合わせください。
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