株式会社MSAファクトリー 真空チャンバー ホットプレート 「PH221」
- 最終更新日:2012-07-31 11:55:20.0
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簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能!
真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート(最高温度200℃)です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0%。プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
基本情報真空チャンバー ホットプレート 「PH221」
【特徴】
○チャンバー構造ホットプレート(最高温度200℃)
○ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプ
○低真空環境での加熱工程を簡易に実現
○チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能
○ホットプレート温度分布 ±2.0%
○プログラム式温度コントローラー(別売)により、温度プログラム設定が可能
○簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能
→真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど
【標準仕様】
○温度設定範囲:50-200℃
○ヒーター容量:AC100V、400W程度(□200mmサイズ)
○ホットプレートサイズ:□150~□250mm
○ホットプレート表面処理:アルマイト(プレートキズ防止)
○ケーブル:PCC-0505(ホットプレート側に配線片端)
○適合温度コントローラ:PCC100、PCC107、PCC100co、PCC107Co
●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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用途/実績例 | 【用途】 ○真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 |
カタログ真空チャンバー ホットプレート 「PH221」
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