大村技研株式会社 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。
厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも
在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。

その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。

基本情報1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

【特長】
○1枚からの成膜が可能です。
○低温CVDは、100℃以下での成膜が可能です。
○異形サイズの基板への成膜も対応可能です。
○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可能です。
○パターニング後の基板も投入可能です。
○温度条件を変えての成膜対応可能です。
○薄膜成膜にて、±4%以下での成膜加工も可能です。

●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。

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カタログ1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

取扱企業1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

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大村技研株式会社

【事業内容】 ○装置設計作成 ○リファブ、フィールドサービス ○ガス供給ユニット・配管製作 ○装置部品・ユニット修理 ○ウエーハ ファウンドリーサービス ○計装、付帯工事 ○中古半導体製造装置売買 ○機械切削加工 ○技術者派遣 ○ガス配管工事 ○製品販売 ○太陽光発電システム販売・施工

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