500℃温度サイクル用 薄膜ストレス測定装置 FLX-2320-S
室温から500℃までの温度範囲で
非接触・非破壊にて薄膜ストレスを
正確に測定することが可能な測定装置
【特徴】
○膜付けされた薄膜によって生じる基板の曲率半径の変化量を算出
曲率半径は、基板上を走査するレーザーの反射角度から計算されるため
膜付けの前後で曲率半径を測定し、その差を算出することにより
曲率半径の変化量(R)を求める
○測定チャンバー内の温度を自由に設定できるため
実際のプロセスおよびIC動作時の環境下での薄膜特性を
より正確に把握することが可能
○ガラス基板測定用オプションもご用意
●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
基本情報500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置 FLX-2320-S
室温から500℃までの温度範囲で
非接触・非破壊にて薄膜ストレスを
正確に測定することが可能な測定装置
【特徴】
○膜付けされた薄膜によって生じる基板の曲率半径の変化量を算出
曲率半径は、基板上を走査するレーザーの反射角度から計算されるため
膜付けの前後で曲率半径を測定し、その差を算出することにより
曲率半径の変化量(R)を求める
○測定チャンバー内の温度を自由に設定できるため
実際のプロセスおよびIC動作時の環境下での薄膜特性を
より正確に把握することが可能
○ガラス基板測定用オプションもご用意
●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | FLX-2320-S |
用途/実績例 | 【用途】 ○半導体 |
取扱企業500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置 FLX-2320-S
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