イオンビームスパッタリング装置アールエムテック

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング（IBS）装置です。

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。
【装置特長】
・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台)
　高真空成膜可能
・コンタミネーションが少ない
・無加熱成膜可能
・高密度膜
・反応性成膜可能
・イオンビームアシスト追加可能
・膜厚等の制御性良好

関連リンク - http://www.rmtec.co.jp/products/ion-beam-02.html

基本情報イオンビームスパッタリング装置

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【装置仕様概略】
　・スパッタリング用イオンソース
　　フォーカスグリッド
　・アシスト用イオンソース
　　デフォーカスグリッド
　・シングルステージ
　・ターゲットホルダー
　・排気系
　・制御系
【オプション】
　・プラネタリーステージ
　・膜厚計
　　透過型光学モニター
　　水晶膜厚計
　・全自動多層薄膜成膜ソフト

価格情報	お問い合わせください
納期	お問い合わせください ※お問い合わせください
用途／実績例	●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

カタログイオンビームスパッタリング装置

イオンビームスパッタリング装置

PDFダウンロード

取扱企業イオンビームスパッタリング装置

アールエムテック株式会社

真空業界における専門技術商社として、真空成膜装置・薄膜材料・イオンソース及び同応用製品、GIB応用製品などの販売、保守サービスなど、お客様のニーズに合わせたトータルなサービスの提案・提供をしています。特にガスクラスターイオンビームの分野では他社の追随を許さぬ製品です。【デモテスト照射】GCIB、イオンビームエッチングのデモテスト行っています。真空成膜装置の排気能力向上に利用されるサップコールド社の冷凍機は、弊社相模原サービスセンターで全数出荷前テストを行い、日本及び中国、台湾、東南アジアでご使用いただいております。また、真空装置に使用される真空ポンプのオーバーホールを相模原サービスセンターで行っています。