アールエムテック株式会社 イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング(IBS)装置です。

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。
【装置特長】
・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台)
 高真空成膜可能
・コンタミネーションが少ない
・無加熱成膜可能
・高密度膜
・反応性成膜可能
・イオンビームアシスト追加可能
・膜厚等の制御性良好

基本情報イオンビームスパッタリング装置

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【装置仕様概略】
 ・スパッタリング用イオンソース
  フォーカスグリッド
 ・アシスト用イオンソース
  デフォーカスグリッド
 ・シングルステージ
 ・ターゲットホルダー
 ・排気系
 ・制御系
【オプション】
 ・プラネタリーステージ
 ・膜厚計
  透過型光学モニター
  水晶膜厚計
 ・全自動多層薄膜成膜ソフト

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用途/実績例 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

カタログイオンビームスパッタリング装置

取扱企業イオンビームスパッタリング装置

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アールエムテック株式会社

真空業界における専門技術商社として、真空成膜装置・薄膜材料・イオンソース及び同応用製品、GIB応用製品などの販売、保守サービスなど、お客様のニーズに合わせたトータルなサービスの提案・提供をしています。特にガスクラスターイオンビームの分野では他社の追随を許さぬ製品です。 【デモテスト照射】GCIB、イオンビームエッチングのデモテスト行っています。 真空成膜装置の排気能力向上に利用されるサップコールド社の冷凍機は、弊社相模原サービスセンターで全数出荷前テストを行い、日本及び中国、台湾、東南アジアでご使用いただいております。 また、真空装置に使用される真空ポンプのオーバーホールを相模原サービスセンターで行っています。

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