エムエス機器株式会社 薬液温調システム CLEANSTREAM
- 最終更新日:2022-03-04 16:46:16.0
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薬液の流路チューブをダイレクトに温度制御するので従来の間接温調方式に比べ95%もの電力消費を削減できます!
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。
ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。
非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。
さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。
別売の専用のコントローラーで温度制御します。
基本情報薬液温調システム CLEANSTREAM
商品ラインナップ
・CLEANSTEAM 1100 温度範囲 5℃~45℃
・CLEANSTEAM 800C 温度範囲 5℃~35℃
・CLEANSTEAM 550/H1500 温度範囲 5℃~90℃
・CLEANSTEAM H3000 温度範囲 40℃~90℃
専用コントローラー
・Switch Back Power Supply and Controller
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 洗浄装置の薬液、純水の温度コントロール |
カタログ薬液温調システム CLEANSTREAM
取扱企業薬液温調システム CLEANSTREAM
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