３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装置
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。
栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。
プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。
DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。
【特徴】
○３次元形状成膜が可能
○装置の大型化が可能
○低温処理が可能
○完全自動運転
○安心のログ機能
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基本情報DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」
【ラインナップ】
○PBll-C600（R&D中型機）
→サイズがコンパクト
→真空排気時間も非常に短く成膜時間の短縮にも繋がる
○PBll-R1000（標準機）
→生産機としても使用できる
○PBll-R1500（標準大型機）
→R1000の5倍の容積を持つ大型機
→R1000と同様の使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能
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カタログDLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」
取扱企業DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」
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電気電子機器製造販売 ○DLCコーティングサービス ○DLCコーティング用 プラズマイオン注入成膜装置 ○大気圧プラズマ発生用電源・装置 ○水中プラズマ発生用電源 ○各種パルス電源 ○高電圧パルスモジュレータ ○高電圧・大電流電源応用装置 ○発変電所用機器(遮断器・変成器等)組立配線
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