株式会社インターフェイス コーティング装置『IK-1000』
- 最終更新日：2016-08-05 15:10:44.0
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金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置！
『IK-1000』は、金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に
適した装置です。
高真空雰囲気中において、ターゲット（成膜材料）を陰極、アノード（陽極）
との間で真空アーク放電を発生させ、成膜材料を蒸発、イオン化し、
基材に負バイアス電圧を印加することで、プラズマ中にイオンを引き付けて
成膜を行います。
また、テストピースの試作など、研究開発用途に適した「IK-500」
もございます。
【特長】
■金属や部品の量産に適する
■全長500mm迄の大型品の処理に適する
■プラズマ中にイオンを引き付けて成膜を実施
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報コーティング装置『IK-1000』
【仕様】
■方式：真空アーク放電型
■形式：1室型バッチ式
■電源：4相 380V 50Hz 90kVA
■処理温度：最大500℃
■真空槽：φ1,000mm×高さ1,000mm
■有効エリア：φ650mm×高さ500mm
■自公転テーブル：φ150×600H×8式
■アークカソード：φ80×10式
■膜種：ta-CX、TiN、TiCN、TiAlN、CrN、多層膜、複合膜
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■金属 ■部品の量産 ■全長500mm迄の大型品の処理 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログコーティング装置『IK-1000』
取扱企業コーティング装置『IK-1000』
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【取扱製品】 ■金属・セラミックス等への表面処理受託加工 ■CVD、PVD装置設計、製造、開発 ■真空装置の設計 ■ガス供給装置の設計
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