株式会社旭プレシジョン 表面処理『レジスタックIII』
- 最終更新日：2016-10-03 13:26:59.0
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剥離して再処理も可能！2つの凹凸形成技術を組み合わせた表面処理
『レジスタック3』は、溶射による凹凸形成とめっきによる凹凸形成技術を
組み合わせることで大表面積を持つ表面処理です。
処理後でも剥離すれば再処理が可能。
環境負荷物質は使用していません。
標準膜厚は溶射20～30μm + レジスタック20μmです。
【特長】
■大表面積を持つ表面処理
■非粘着性を向上
■剥離して再処理が可能
■環境負荷物質は不使用
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報表面処理『レジスタックIII』
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ表面処理『レジスタックIII』
取扱企業表面処理『レジスタックIII』
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○精密機器の製造（設計・機械加工・表面処理・組立て・調整） ○半導体製造装置の製造 ○特殊表面処理及び一般表面処理 ・無電解ニッケルめっき （フッ素樹脂複合処理・黒色表面処理（ 黒色めっき ）・W合金めっき） ・アルマイト （硬質アルマイト・フッ素樹脂複合処理（テクノマイト）） ・フッ素樹脂コーティング （摺動性・非粘着性） ・クロムめっき （硬質クロム・クロム複合めっき） ・ブラスト加工 （特殊ブラスト加工）
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