SCIVAX株式会社 ナノインプリント装置『X-300』
- 最終更新日：2020-07-15 10:53:46.0
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すべてのステージで高品質・低コスト・高い設備生産性を追及・実現！
『X-300』は、熱式・UV式両用のR&Dパイロット生産対応可能なナノ
インプリント装置です。
R&Dから量産まで、すべてのステージで高品質・低コスト・高い設備
生産性を追及し、実現します。
当社では、R&Dと量産に向けてのナノインプリント・トータルソリュー
ションを提供しています。
【特長】
■R＆Dからパイロット生産まで対応可能
■熱式・UV式両用
■高品質
■低コスト
■高い設備生産性
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報ナノインプリント装置『X-300』
【仕様（抜粋）】
■プロセス方式：一括転写方式
■対象ワーク
・熱可塑性樹脂
・UV硬化性樹脂（UV仕様）※オプション
・各種ガラス（高温仕様）※オプション
■最大加圧力50kN
■金型サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能）
■基板サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能）
■金型加熱最大温度
・室温～250℃
・室温～650℃（オプション）
■基板加熱最大温度
・室温～250℃
・室温～650℃（オプション）
■冷却機構
・250℃迄：強制空冷ー強制水冷 切替式
・250℃以上：強制空冷式(オプション）
■面内温度均一性：±1℃
■最大連続荷重時間：30分
■最大ステージストローク：100mm
■ステージ位置最小分解能：0.05μm
■ステージ移動最小速度：0.05μm/sec
■外形寸法：H1,800×D1,350×W900(mm)
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
取扱企業ナノインプリント装置『X-300』
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ナノインプリント受託事業 ナノインプリント関連事業 事業化コンサルティング
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