真空蒸着技術の高い信頼性とそこから生まれる光学製品の多様性
真空蒸着とは成膜技術の一つで、高真空中で蒸着材料を加熱し気化させ、
気体分子となった蒸着材料が基板に衝突、付着して
蒸着薄膜が形成される技術です。
沸騰して蒸発する水蒸気の上に板を持ってきた時に
蒸発した水が付着するのと同じ原理です。
誘電体、金属等の蒸着物質を、屈折率・厚み。層数等の組み合わせを変えて成膜し、光（紫外光・可視光・赤外光）を透過・反射・吸収させることが可能です。
【特長】
■ガラス、プラスチック、フィルム、金属等に成膜可能
■蒸着材料としては、金属酸化物（ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2等）金属（Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｎ 、Ａｕ、Ａｇ等）
■連続式真空蒸着装置を使用し高品質、生産性向上
■高真空で成膜することで蒸着膜の密着性や膜質が向上
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基本情報成膜技術『真空蒸着』
【蒸着方法】
■抵抗蒸着
抵抗加熱ボードの上に蒸着薬品をのせてボードの抵抗での熱により
蒸着材を溶かして蒸発させるタイプの蒸発源です。
■電子銃(EB)蒸着
電子銃を用いて収束された電子を蒸着薬品に照射させます。
電子を収束させることにより蒸着材料の表面は1000℃～3000℃になり
溶け出して蒸発するという原理になっています。
弊社では電子銃蒸着がメインとなっています。
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| 用途／実績例 | 【用途】 ■各種光学部品 ■携帯電話部品 ■車載部品 ■意匠部品 ■家電製品 ※詳しくはPDFをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ成膜技術『真空蒸着』
取扱企業成膜技術『真空蒸着』
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■真空蒸着機による表面処理加工
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