R＆D用スキャン式エキシマ照射装置レンタルあすみ技研

100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能です。

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。
【特徴】

スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。
オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。

基本情報R＆D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル

型式 ASM86 Excimer
発光波長 172nm
処理対象物 W86mm×D120mm以下、厚み40mm以下
照射距離調整調整用ラボジャッキ付（照射距離0～40mmまで可変）
外形寸法本体：（Ｗ）432mm×（D）510mm×（Ｈ）520.5mm
概算重量約25kg　（本体　20kg、照射ユニット　4.8kg）
本体材質 SUS304/A5052P/SPCC
照射ユニット
ランプメーカー浜松ホトニクス株式会社製
型式 FLAT EXCIMER EX-86U　L13129
照射面サイズ 86mm×40mm
エキシマ有効照射距離　5mm以内推奨
冷却方式強制空冷
処理速度 0.1mm/sec～120mm/sec
処理可動範囲 240mm

タッチパネル 4インチモノクロタッチパネル
レシピ数 20レシピ（処理速度、照射時間設定可能）
モニタ機能現在速度・現在位置・残り時間　表示機能付き
排オゾン設備オゾン触媒内蔵（ファン強制排気）
ユーティリティ AC100V 50/60Hz　400VA

価格帯	1万円 ~ 10万円
納期	即日
用途／実績例	ガラス表面の有機系皮膜の除去ガラスとITOの密着性向上 ITOと絶縁膜との密着強度向上各種塗布膜の親水化パッケージの前処理ウェハ表面の有機系皮膜の除去金鍍金表面の有機系皮膜の除去、親水化レジストのＵＶアッシングレンズ表面の有機系皮膜の除去樹脂レンズ表面の親水化金属系蒸着膜との密着性向上コーティング、貼合せ各前処理メッキ加工の前処理レジスト膜表面の有機物除去はんだとの密着性向上ナノインプリント用モジュールの洗浄セラミック部品蒸着前処理セラミック部品密着性向上塗装と樹脂基材との密着性向上蒸着膜と樹脂基材との密着性向上接着剤と樹脂基材との接着性向上布と樹脂基材との接着性向上