湘南丸八エステック株式会社 HPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適 どこでもドラフト
- 最終更新日：2017-12-26 15:59:07.0
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研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的として開発した
「どこでもドラフト」卓上型ガス除去装置
有機溶媒臭や刺激臭が発生する付近に「どこでもドラフト」を設置してください。
有機溶媒・ＶＯＣガス暴露のリスクを低減します。
特徴
強力な吸引力
優れたホルムアルデヒド除去性能 （活性炭フィルターのおよそ10倍以上の吸着性能です。ガスの種類によっては数十倍吸着致します。）
持ち運びが容易なコンパクト設計 どなたでも持ち運びが容易です。
化学吸着と物理吸着の両方を持ち合わせております。
ホルムアルデヒドの臭いも除去します。
重さ約5kgのコンパクト設計のため、女性でも好きな場所へ持ち運び作業エリアが確保できます。
小型ながら工夫された気流コントロールにより、効率的かつ強力にホルムアルデヒドを吸引除去します。
装置内に搭載されたホルムアルデヒド専用フィルターにより強力な除去性能を発揮します。
その他化学系・薬学系の化学薬品の暴露対策としても利用可能です。
作業環境のリスクアセスメントの対策を簡便に行えます。
基本情報HPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適 どこでもドラフト
どこでもドラフト 本体
型式:ＳＭＳＴ-ＤＤ
寸法:W210×D210×H350mm
最大風量:4.6m3(立米)
消費電力:28W(ACアダプター付属)
重量:約3.5kg
標準価格:１５８,０００円
どこでもドラフト交換用フィルター
型式:ＳＭＳＴ-ＤＤ-ＳＦ
寸法:W150×D150×H30mm
重量:約150g
標準価格:３8,０００円
使用例：
HPLC装置使用時の有機溶媒臭
ガスクロマトグラフィーの排気VOC
Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露
2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露
電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露
病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露
組織染色関連でのキシレン暴露
(納入先での使用実績)
フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他
| 価格情報 |
158,000 本体価格 |
|---|---|
| 価格帯 | 10万円 ~ 50万円 |
| 納期 | 2・3日 |
| 型番・ブランド名 | ＳＭＳＴ-ＤＤ |
| 用途／実績例 | 使用例： HPLC装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露 2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム・グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 （納入先での使用実績） フェノール・トルエン・キシレン・ベンゼン・ホルムアルデヒド・ＩＰＡ・へプタン・クロロホルム・アセトニトリル・アルコール・ＴＨＦ・ヘキサン・シクロヘキサン・アセトン・オスミウム・グルタルアルデヒド・酢酸・酢酸エチル・ジクロロメタン 他 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| ＳＭＳＴ-ＤＤ-ＳＦ | どこでもドラフト交換用セラミックフィルター(2枚組) |
カタログHPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適 どこでもドラフト
取扱企業HPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適 どこでもドラフト
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■ 半導体・液晶製造装置用の真空機器部品の設計・製造・販売 ■ 各産業における分離分析機器（ HPLC, LC-MS, GC-MS,をはじめとする分析機器 ）の取扱い ■ 特注での研究理化学機器のカスタマイズの設計・製造・販売 ■ 各種樹脂・金属・ガラス部品の加工及び販売 ■ 上記各号の販売に関する営業の請負業務
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