湘南丸八エステック株式会社 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に! どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフトチャンバー 活性炭フィルターのおよそ10倍の吸着性能

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的として開発した
「どこでもドラフト」卓上型ガス除去装置

有機溶媒臭や刺激臭が発生する付近に「どこでもドラフト」を設置してください。
有機溶媒・VOCガス暴露のリスクを低減します。
特徴
強力な吸引力
優れたホルムアルデヒド除去性能 (活性炭フィルターのおよそ10倍以上の吸着性能です。ガスの種類によっては数十倍吸着致します。)
持ち運びが容易なコンパクト設計 どなたでも持ち運びが容易です。
化学吸着と物理吸着の両方を持ち合わせております。

ホルムアルデヒドの臭いも除去します。
重さ約5kgのコンパクト設計のため、女性でも好きな場所へ持ち運び作業エリアが確保できます。
小型ながら工夫された気流コントロールにより、効率的かつ強力にホルムアルデヒドを吸引除去します。
装置内に搭載されたホルムアルデヒド専用フィルターにより強力な除去性能を発揮します。
その他化学系・薬学系の化学薬品の暴露対策としても利用可能です。
作業環境のリスクアセスメントの対策を簡便に行えます。

基本情報病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に! どこでもドラフト

どこでもドラフト 本体 取っ手付き
型式:SMST-DD-HD
寸法:W210×D210×H390mm
最大風量:4.6m3(立米)
消費電力:28W(ACアダプター付属)
重量:約3.5kg
標準価格:163,000円

どこでもドラフト交換用シングルフィルター
型式:SMST-DD-SCF
寸法:W150×D150×H30mm
重量:約150g
標準価格:38,000円

使用例:
HPLC装置使用時の有機溶媒臭
ガスクロマトグラフィーの排気VOC
Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露 
2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露
電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露
病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露
組織染色関連でのキシレン暴露

(納入先での使用実績)
フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/IPA/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/THF/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他

価格情報 163,000
本体にはシングルフィルター2個付属
価格帯 10万円 ~ 50万円
納期 2・3日
型番・ブランド名 SMST-DD-HD
用途/実績例 使用例:
HPLC装置使用時の有機溶媒臭
 ガスクロマトグラフィーの排気VOC
Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露 
2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露
電子顕微鏡関連でのオスミウム・グルタルアルデヒド暴露
病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露
組織染色関連でのキシレン暴露

(納入先での使用実績)
フェノール・トルエン・キシレン・ベンゼン・ホルムアルデヒド・IPA・へプタン・クロロホルム・アセトニトリル・アルコール・THF・ヘキサン・シクロヘキサン・アセトン・オスミウム・グルタルアルデヒド・酢酸・酢酸エチル・ジクロロメタン 他

ラインナップ

型番 概要
SMST-DD-SCF どこでもドラフト交換用セラミックフィルター(2枚組)
SMST-DD-WCF ダブルセラミックフィルター 2枚入り シングルフィルターの約2倍の吸着性能

カタログ病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に! どこでもドラフト

取扱企業病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に! どこでもドラフト

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■  半導体・液晶製造装置用の真空機器部品の設計・製造・販売 ■  各産業における分離分析機器( HPLC, LC-MS, GC-MS,をはじめとする分析機器 )の取扱い ■  特注での研究理化学機器のカスタマイズの設計・製造・販売 ■  各種樹脂・金属・ガラス部品の加工及び販売 ■  上記各号の販売に関する営業の請負業務

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