株式会社魁半導体 プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果!

Siやカーボン膜のエッチング!
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
お使い頂けます♪

基本情報プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

出力 MAX300W
周波数 13.56MHz
外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm
重量 約 85Kg 
ガス系 マスフロコントローラ1系統(2系統はオプション)
浮子式流量計
ステージ寸法
φ200mm
電源 AC100V 50/60Hz 15A
真空ポンプ 135/160 ( リットル/min )
操作方法 タッチパネルによる自動操作

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
型番・ブランド名 CPE.S-200A(Chemical Physical Etching)
用途/実績例 【表面改質】
☆内容
・表面改質/ドライ洗浄/親水性の向上/接着効果の改善/
 印刷・塗装の前処理/有機物質の除去/濡れ性の向上/細胞培養等・・・

☆材料
金属・ガラス・樹脂・紛体・チューブ等

【エッチング】
☆内容
・ドライエッチングの受託加工(シリコン・ガラス・金属)

【成膜】
☆内容
・SiO2膜・TEOS膜の製膜

【実例】
☆内容
・ガラスの洗浄・接着前処理
・LSIの洗浄・接着前処理
・樹脂成型品の洗浄・接着前処理
・太陽電池、燃料電池 の基板洗浄
・有機EL 、デジタルサイネージ関連ディスプレイ、液晶基板の端子洗浄
・ワイヤーボンディングの前処理
・フィルムの洗浄・接着前処理
・MEMSの洗浄等
・メッキ前洗浄
・紙への印刷前処理
・半導体プレート洗浄
・シリコンウェハーの洗浄 等・・・・

カタログプラズマエッチャー【CPE.S-200A】

取扱企業プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

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株式会社魁半導体

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売 ・工業用石英ガラスの販売、および加工 ・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売 ・堆積代行、エッチング代行 ・半導体プロセスのコンサルティング業務

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