キヤノンオプトロン株式会社 【薄膜テクニカルデータ】AR+AFコーティング

OS-50,SiO2(E),SURFCLEAR100によるテクニカルデータ配布中!

現在、薄膜の利用は実にさまざまな産業の分野に及んでいます。

レンズ類の反射防止膜、ミラー、液晶ディスプレイパネル、等々。
それらの源となる材料、それが蒸着材料であり、多種多様な目的に
応じて多くの種類・形状・サイズのものが使用されます。

当資料では、水・油汚れを簡単に落とすことができるフッ素コーティング用材料
「SURFCLEAR 100」や、「OS-50」「SiO2(E)」によるAR+AFコーティングに
関するテクニカルデータを掲載しています。

【掲載内容】
1-1. 膜構成
1-2. 成膜条件 [OS-50 ]
1-3. 成膜条件[SiO2(E) ] 基板より1層目および3 層目
1-4. 成膜条件[SiO2(E) ] 基板より5層目
1-5. 成膜条件 [SURFCLEAR 100]
2-1. 分光特性
2-2. 水に対する接触角評価

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基本情報【薄膜テクニカルデータ】AR+AFコーティング

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取扱企業【薄膜テクニカルデータ】AR+AFコーティング

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キヤノンオプトロン株式会社 本社

■光学結晶および真空蒸着材料の開発、製造、販売

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