エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
- 最終更新日:2024-06-19 16:54:13.0
- 印刷用ページ
極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、超精密研磨された単結晶シリコン基板に反射コーティングを蒸着した多層膜のブラッグ反射ミラー。表面粗さは3Å未満です。入射角45°のミラーは、s偏光のビームステアリング用に、対する入射角5°のミラーは、非偏光との使用に有益です。コヒーレント回折イメージング (CDI) 、EUV分光、ナノマシニングなどの用途にお使いいただけます。
【特長】
■13.5nmで最大限の反射率を達成
■極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン
■入射角5°と45°をラインナップ
基本情報極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
●さらに詳しい説明、標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | ~ 1週間 |
用途/実績例 | Edmund Optics (EO)は、光学部品、画像、フォトニクス技術のリーディングカンパニーです。R&D、エレクトロニクス、半導体、製薬、バイオメディカルなど、世界中のマーケットをサポートしています。EOの製品は、DNA分析から網膜による個人認証、また高速FA用途に至るまで、幅広いアプリケーションに用いられます。EO最新の製造ケイパビリティとグローバル物流ネットワークの融合により、光学部品を在庫販売するNo.1サプライヤーとして、市場で認知されています。日本のお客様は、現地法人のエドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社が対応いたします。 |
カタログ極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
取扱企業極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
-
光学部品・光学製品の製造販売、及び同製品の仕入輸出業務 取扱製品: [オプティクス] 光学レンズ、光学用ミラー、ウインドウ & 拡散板、光学フィルター、偏光素子、ビームスプリッター、プリズム、回折格子 [イメージングレンズ] 固定焦点 (単焦点) レンズ、テレセントリックレンズ、M12 マウントレンズ (Sマウントレンズ)、固定倍率レンズ、耐久化レンズ、液体レンズ、ズームレンズ [レーザーオプティクス] レーザー用ミラー、レーザー用レンズ、レーザー用ウインドウ、レーザー用フィルター、超短パルス用オプティクス、レーザービームエキスパンダー [顕微鏡関連製品] 対物レンズ、顕微鏡用カメラ/照明/フィルター、実体顕微鏡、接眼レンズ [産業用カメラ] GigE (PoE) カメラ、USBカメラ [照明製品] マシンビジョン用照明、顕微鏡用照明、分光用照明、レーザー光源 [オプトメカニクス] ベンチトップ用/ケージシステム用光学マウント、電動/自動/手動ステージ、ブレッドボード
極端紫外 (EUV) 用平面ミラーへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。