有機物の除去・クリーニング可能！ガス導入せず残留大気で処理するタイプよりも安定したプロセスが実現
当社の真空プラズマ製品は洗浄やエッチング、薄膜形成など幅広い研究で利用されています。
ガス導入型「YHS-G」は複数のガス導入に対応し流量調整や細かな処理条件の設定が
可能な高機能製品として研究や生産現場でも利用されています。
今回「YHS-O」をシリーズのラインナップに加え、
ガス導入は酸素に限定し、本体の機能や構造を見直して新たに開発しました。
当社従来品の約 1/3 の価格設定で提供、また短納期化も可能にしました。
更に、ガス導入せず残留大気で処理するタイプよりも安定したプロセスが実現しました。
【用途例】
■有機物の除去・クリーニング
→実験用具のドライ洗浄や接着の前処理
■表面の活性化、水酸基の付与
→細胞培養容器など、バイオ・医療分野で
■PDMSとガラスの接着剤を使わない貼合わせ
→マイクロ流路の作製
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基本情報従来の約 1/3 の価格設定！卓上真空プラズマ装置
■仕様
型式 YHS-O （※O＝オー）
外形寸法 （W)210×(D)230mm×(H)315mm （突起部分を除く）
ステージ（処理電極）寸法 Φ100mm ・ 電極間距離 60mm
重量 約6.0 kg
動作ガス 標準：O２
排気調整 調整不可
タイマー 設定値：0〜9999 秒（1 秒単位）
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| 用途／実績例 | ※お問合せまたは、下記よりカタログをダウンロードしてご覧ください。 |
取扱企業従来の約 1/3 の価格設定！卓上真空プラズマ装置
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