サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます
『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する
装置です。
600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。
耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。
【仕様】
■サンプルMAXサイズ10mm口
■600℃までヒーター加熱
■RPにて排気、MAX 5Pa
■O2 x 1 Ar x 4系統 MFC仕様
■φ300 x 300H チャンバーサイズ
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基本情報レーザーCVD装置
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|---|---|
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| 用途／実績例 | 【用途】 ■耐熱、断熱セラミック研究用途 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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