3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しました
当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。
コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。
内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。
また、3インチウェハ対応となっております。
【特長】
■酸化シリコンを成膜
■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現
■3インチウェハ対応
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基本情報酸化シリコン成膜CVD装置
【仕様】
■真空排気：ターボポンプ
■ヒーター：SiC MAX1200℃
■水冷：外周蛇管 上フランジジャケット
■外寸：φ360 x 500H
■内面処理：電解研磨
■ガスケット：金メッキ銅ガスケット
■チャンバー材質：SUS316
■ガス吐出基板長間可変：0mm ～ 50mm
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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