株式会社三若純薬研究所 フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
- 最終更新日：2020-03-31 11:15:56.0
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浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、
浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。
ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。
苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。
【処理条件】
■濃度：原液処理
■温度：50～70℃
■時間：5分前後
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
【その他の特長】
■対象物：ドライフィルム、ポジレジスト
■使用されている業界：電子工業
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログフォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
取扱企業フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』
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■化学薬品の製造販売
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