株式会社三若純薬研究所 レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
- 最終更新日：2020-03-31 11:15:56.0
- 印刷用ページ
水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を
ご紹介します。
珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。
20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。
【処理条件】
■濃度：原液又は純水にて希釈
■温度：常温～70℃
■時間：20～90秒
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
【その他の特長】
■対象物：ポジレジスト
■使用されている業界：電子工業
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■水溶性レジスト剥離剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログレジスト剥離液『アンラスト No.1D』
取扱企業レジスト剥離液『アンラスト No.1D』
-
-
■化学薬品の製造販売
レジスト剥離液『アンラスト No.1D』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。