テラスケープ合同会社 ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)
- 最終更新日:2020-12-11 08:11:52.0
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弊社では、高純度シリコン製品を製造する海外企業と密接な関係を作っており、お客様の要望に合わせた仕様の多結晶シリコン・インゴット、単結晶シリコン・ターゲット、単結晶スパッタリング・ターゲットを供給可能です。まずは弊社からのヒアリングにお答えいただき、サンプルを作成させていただきます。そのサンプルを実際にお手にとってご判断ください。きっとご満足いただけると思っております。どうかよろしくご検討をお願い申し上げます。
基本情報ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)
まずはお客様の材料に関するご要望をお聞かせください。
これらの仕様をお聞かせいただいた後。弊社から製造メーカーに依頼しサンプルを作成します。(スペックシートも同時にお渡しします。)
これをお客様が実際に成分をご確認いただき、ご検討をいただく流れになります。
どうかよろしくお願い申し上げます。
価格情報 | カスタマイズ商品ですので、仕様によってお見積りさせていただきます。 |
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納期 |
お問い合わせください
※カスタマイズ商品ですので、仕様によってお見積りさせていただきます。 |
用途/実績例 | 例1 純度:>5N(99.999%) 相対密度:>99.9% 結晶構造:多結晶 電動形:P型 抵抗率:0.005-0.02Ω·cm; 0.5-2.0Ω·cm 金属不純物:<1ppm 仕様・サイズ:300 x 100 x 16 mm 用途:スパッタリングターゲット材 例2 純度:>5N(99.999%) 相対密度:>99.9% 結晶構造:単結晶 電動形:P型またはN型 抵抗率:<0.02Ω·cm; > 1.00Ω·cm >10.0Ω·cm 金属不純物:<1ppm 仕様・サイズ:Φ304.8 x Φ101.6 x 9 mm 用途:スパッタリングターゲット材 例3 純度:>5N(99.999%) 相対密度:>99.9% 結晶構造:多結晶 電動形:P型 抵抗率:0.001〜0.02Ω·cm; > 1.0 〜4.0Ω·cm 金属不純物:<1ppm 仕様・サイズ:直径400〜650 厚さ 10〜60 mm 用途:半導体用 |
詳細情報ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)
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純度:>5N(99.999%)</br>
相対密度:>99.9%</br>
結晶構造:多結晶</br>
電動形:P型</br>
抵抗率:0.005-0.02Ω·cm; 0.5-2.0Ω·cm</br>
金属不純物:<1ppm </br>
仕様・サイズ:300 x 100 x 16 mm </br>
用途:スパッタリングターゲット材 </br>
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純度:>5N(99.999%)</br>
相対密度:>99.9%</br>
結晶構造:多結晶</br>
電動形:P型</br>
抵抗率:0.001〜0.02Ω·cm; > 1.0 〜4.0Ω·cm</br>
金属不純物:<1ppm</br>
仕様・サイズ:直径400〜650 厚さ 10〜60 mm</br>
用途:半導体用</br>
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純度:>5N(99.999%)<br>
相対密度:>99.9%<br>
結晶構造:単結晶<br>
電動形:P型またはN型<br>
抵抗率:<0.02Ω·cm; > 1.00Ω·cm >10.0Ω·cm<br>
金属不純物:<1ppm<br>
仕様・サイズ:Φ304.8 x Φ101.6 x 9 mm<br>
用途:スパッタリングターゲット材<br>
取扱企業ターゲット材、スパッタリング材用高純度シリコン製品(5N〜6N)
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