低圧用途向け高性能
ODV型は、3層構造の引張型ラプチャーディスクで、主に低～中圧の用途に適した設計となっています。3層構造は、上部の破裂層（O）、シールメンブレン層（D）、そしてプロセスに面したバキュームサポート層（V）から構成されています。幅広いプロセス条件において、性能と耐久性が高く、費用対効果に優れたソリューションとなります。 正確なフルボア破裂開放のため、破裂圧力を定める重要な役割を持つ破裂層は、REMBE独自の製造プロセスに精密レーザー技術で製造されます。
ODV型は、幅広い業界のプロセス条件向けの、優れた圧力解放ソリューションです。 リリーフ圧が0.05 bar gの低さまで作動する条件に対応可能で、ガス、蒸気、液体、二相流の用途に適しています。シート角度30°で取付けられる引張型ラプチャーディスクODV型は、破片飛散の無い設計で、DN20～DN600 (3/4"-24")*の呼び径サイズで使用可能なため、様々なプロセス条件を満たす理想的なソリューションとなっています。
【用途】
★発電所、タービン、コンデンサー、化学工業、石油化学工業、プロセス容器、化学リアクター、貯蔵タンク、精製所など
基本情報圧力解放 | ODV型 引張型ラプチャーディスク
【ご使用のメリット】
★ REMBE独自の精密レーザー技術による製造 - 正確で優れた性能と開放を保証します
★ 幅広い圧力に対応可能なため、設備全体に同じ型式のラプチャーディスクを取付可能です
★ 多くの用途に使用可能で、耐食性に優れたソリューション - 3層構造のため、長期にわたって高い耐食性を保証します
★ 幅広いプロセス条件に対応可能 - 非常に多くの用途に適した、汎用性と費用帯効果の高いソリューションです
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ● 発電所 ● タービン ● コンデンサー ● 精製所 ● 化学工業 ● 石油化学工業 ● プロセス容器 ● 化学リアクター ● ケミカルチラー ● 貯蔵タンク など |
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