DUV CW深紫外半導体レーザーシステムトプティカフォトニクス

193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266 nm FHG 発生半導体レーザーシステム

トプティカ社の深紫外半導体レーザーシステムはリソグラフィー、光学テスト＆検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。

本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優位性を備えています。

・最大数百mWクラスの高出力
・高いコヒーレンス：100mを超えるコヒーレンス長（<1MHz線幅）
・低いランニングコスト
・深紫外から可視まで豊富な波長ライナップ (波長チューニングオプション)
・堅牢 & 高い信頼性（周波数安定化オプション）

DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

基本情報DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

【主な仕様】
●　発振波長：　190 .. 340 nm (半導体増幅器)、254 .. 390 nm (ファイバー増幅器)
●　線幅：　　　< 500 kHz、単一周波数発振
●　出力：　　　　最大 700 mW, 波長により異なります。
●　空間モード：　回折限界に近似
●　本体寸法： 90 x 410 x 692 mm³　
●　消費電力：　 < 150 W 典型値., 300 W 最大
●　制御インターフェース：　イーサネット, USB, アナログ制御

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型番・ブランド名	DLC TA FHG PRO
用途／実績例	・リソグラフィー(半導体露光装置) ・ホログラフィー・干渉計測・紫外分光・UVオプティクス検査・レーザー顕微鏡(CARS)