引張り～圧縮の応力制御が可能！スペースに合わせて柔軟に設置できます
サムコ株式会社では、プラズマCVD装置である『PD-270STLC／PD-2201LC』を
取り扱っております。
「PD-270STLC」は、上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜が可能。
また「PD-2201LC」は、トレイ搬送による小径ウエハの複数枚同時成膜から、
ウエハ枚葉処理による高均一な成膜まで、お客様の要望に応じて幅広く
対応できます。
【特長】
<PD-270STLC>
■液体原料SN2によるSiN成膜
■上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』
【特長】
<PD-2201LC>
■広範な膜質制御
■コンパクトな省スペース装置
■トレイによるウエハ搬送
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
取扱企業プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』
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