真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご紹介
『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を
誇るICPエッチング装置です。
高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。
また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・
低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。
【特長】
<RIE-800iPC>
■最大Φ8”ウエハ対応
■放電形式に誘導結合プラズマを採用
■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる
■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保
■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報ICPエッチング装置 RIE-800iPC/RIE-400iPC
【特長】
<RIE-400iPC>
■最大Φ4”ウエハ対応
■高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現
■反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現
■干渉型、発光分光型のエンドポイントモニタに対応しており、狙い膜厚での終点検出が可能
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
取扱企業ICPエッチング装置 RIE-800iPC/RIE-400iPC
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