光洋サーモシステム株式会社 コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』
- 最終更新日：2021-01-29 14:47:49.0
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GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置のご紹介
『RLA-3100-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な
コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。
耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、
N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。
また、自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現します。
【特長】
■～6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応
■自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現
■真空対応によりアニール特性向上
■N2ロードロック対応により短TATを実現
■GaN基板の処理も可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』
【仕様】
■使用温度範囲：600～1200℃
■ウェーハサイズ：～6インチ
■使用ガス：N2、Ar、O2、H2
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■コンタクトアニール、酸化(減圧中での処理、N2ロードロック環境での処理が可能) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログコンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』
取扱企業コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』
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当社は1958年、光洋精工株式会社『現(株)ジェイテクト』リンドバーグ事業部として発足し、翌年バッチ型浸炭炉の国産第１号を開発。 1967年分離独立、新会社設立とともにヒートテクノロジー分野一筋に邁進してきました。 電子部品分野をはじめ半導体製造装置、実験開発機器、金属熱処理装置など、ヒートテクノロジーの総合メーカとして豊かな技術と創造力で次世代のリーダとして躍進します。
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