【28K～300K・窒素＆ヘリウム】吹付低温装置N-Helix テガサイエンス

ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプX線回折用吹付低温装置！

Oxford Cryosystems社製N-Helixは、液体ヘリウムを使用せずに、ヘリウムガスを用いて28Kまで冷却可能な吹付低温装置です。最小限のガス消費で、経済的に動作するよう設計されており、一般的なヘリウムガスボンベで約16時間～20時間運転することができます。マニホールドを使って複数のボンベを連結することで、長時間の実験が可能です。

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関連リンク - https://www.tegascience.co.jp/products/ocs/n-helix…

基本情報【28K～300K・窒素＆ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

【主な特徴】
■温度範囲：28～300K
■0.3Kの優れた温度安定性
■およそ45分で100Kに到達
■およそ75分で30Kに到達
■ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプ

【主な仕様】
■温度範囲：28～300K
■温度安定性：0.3K
■ヘリウムガス流量：7.5L/分（内部ガス流と外部ガス流の合計）
■窒素ガス流量：8L/分（内部ガス流と外部ガス流の合計）
■100K到達温度：約45分
■30K到達温度：約75分
■コールドヘッド重量：10.8kg

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価格情報	構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください ※※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	N-Helix
用途／実績例	単結晶X線回折・粉体X線回折

ラインナップ

型番	概要
N-Hexlix	温度範囲：28-300K

お問い合わせ

取扱企業【28K～300K・窒素＆ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

テガサイエンス株式会社

【取扱製品】 1. 多目的真空蒸着装置 2. ナノ粒子堆積装置 3. 円二色性分散計 4. ストップトフロー装置 5. 超高感度CCDカメラ 6. X線回折CCD検出器 7. 高性能TEM用カメラ 8. 低温吹付装置 9. 極低温単軸ストレス／ひずみセル 10. IRセンサーカード 11. シンチレーター応用製品