DKSHマーケットエクスパンションサービスジャパン株式会社粉体ぬれ性改善イオン親水化装置　NEW【粉体静置処理】

最終更新日：2022-05-20 13:29:36.0
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ぬれ性の悪い粉体に特殊な強力電圧電界を静置一定時間印可することで粉体のぬれ性を改善させるまったく新しい技術です。【静置処理】

イオン親水化装置　Rich Ion Hydolofilitor　
STM-1000機器内部には外部と絶縁したチャンバーがあり、そこに袋にいれた対象粉体を投入静置します。このチャンバー内のみに強力な電圧電界を作ります。
この強力電圧電界のチャンバー内に24時間対象粉体を入れ静置処理します。強力電圧電界は袋を通過して、内部の対象粉体に分子の電子配列かたよりを生じさせます。
この現象を一定時間継続してくと、対象物質全体の分子構造に若干のかたよりを生じさせることができます。このかたよりが対象粉体の水分子及び液体分子へからみやすくするのです。
分子レベルの変化ですので、物性を変化させることなく、親水性を向上させることができます。

基本情報粉体ぬれ性改善イオン親水化装置　NEW【粉体静置処理】

機器内部には外部と絶縁したチャンバーがあり、そこに袋にいれた対象粉体を投入静置します。このチャンバー内のみに強力な電圧電界を作ります。
対象粉体物が【導体】の場合、特殊な強力電圧電界下に放置することにおいて、電子の移動が起こります。
対象物が【不導体】の場合、不導体中の電子は原子核が許す範囲内で帯電体に近づく動きを示します。
どちらの場合も分子構造に若干の方よりを生じさせることができます。
分子のかたよりが粉体対象物のぬれ性を向上させる効果を示すのです。

対象物を投入するチャンバー容量は　約7L　になり、その中全体が強力電圧電界環境になります。粉体量は材料の物性によりますが、2-4kgくらいの
粉体をいれることができ、一気に処理することが可能です。
対象物の分子は少しづつ変化していくため、一定時間が必要になり、24時間チャンバー内で静置処理が必要になります。

価格帯	100万円 ~ 500万円
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	STM-1000
用途／実績例	● 粉体の親水性向上効果は、溶液中に対象粉体をなじませたい工程でのダマなどによる不溶解の問題を解消します。　　　　〇　少量づつ粉体の投入工程の改善　　　　〇　粉体表面の親水化作業性の向上 ● ナノサイズ微粒子、添加剤微粒子分散時、本分散前のミキサー等での予備分散時間を短縮できます。 ● 顔料微粒子分散において、固液界面の濡れ性を向上させます。 ● 導電性微粒子の溶液分散の濡れ性を向上させます。 ● リチウム二次電池に使用される活性材料・炭素材料の溶剤中の　均一分散への活用できます。

詳細情報粉体ぬれ性改善イオン親水化装置　NEW【粉体静置処理】

: 装置の上部が開閉できるようになっており、チャンバーが内部に設置されています。この中に対象物を投入し、一定時間静置処理します。
概略寸法：W600XH500XD500
チャンバー容量：約7L
このチャンバー内に対象物を投入し、一定時間静置処理します。

: 袋にいれた対象粉体を装置に投入静置します。このチャンバー内のみに強力な特殊電圧電界を作ります。
この強力電圧電界のチャンバー内に24時間対象粉体を静置処理します。
強力電圧電界は袋を通過して、内部の対象粉体に分子の電子配列かたよりを生じさるのです。
大きな動力は必要としません。

: 未処理粉体と、STR-1000にて24時間処理した粉体を表面張力計0にて測定を比較分析を実施しました。　

粉体の浸透ぬれでは液体がWashburn式に従い一定の面積で浸透ぬれ
が広がります。同条件の未処理粉体とイオン親水化装置処理後粉体を
専用測定カラムに適正な同条件で充填し、浸透ぬれ速度を測定しました。
浸透速度に大きな違いができます。

カタログ粉体ぬれ性改善イオン親水化装置　NEW【粉体静置処理】

イオン親水化装置　粉体静置処理　※粉体自体の親水性向上

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取扱企業粉体ぬれ性改善イオン親水化装置　NEW【粉体静置処理】

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テクノロジー事業部門は、各種産業機械、工作機械、ハイテク機器、特殊金属を中心に、欧米およびアジアの一流メーカーの最先端テクノロジーを幅広く提供するとともに、迅速で質の高いアフターサービスをお届けしています。メーカーによる技術指導を受けた専門技術者が全国をカバーし、さらに保守部品を各種ストックして機械・計測機器のダウンタイムを最小限にするためのロジスティック部門の充実も図っています。