ニッシン産業株式会社 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』
- 最終更新日：2022-07-22 15:01:18.0
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『RKE1500B1-V-G2』は、30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で
温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。
液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。
ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、
プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。
【特長】
■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の
高精度を両立
■液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応
■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、
プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適している
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』
【仕様(抜粋)】
■幅(mm)：400
■奥行(mm)：850
■高さ(mm)：966
■冷却能力(W)(50/60Hz)：5300
■温度調節範囲(℃)：5～35
■最大流量(L/min)(50/60Hz)：33/42
■電源(V)：三相200
■消費電力(kw)(50/60Hz)：2.3/2.4
■電源コード：3m
■管接続口径：Rc1
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』
取扱企業冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』
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