BS-80020CPPS プラズマソースアズサイエンス

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。
プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。

〇特長
・無加熱成膜でも密着性が良い
・填密度の高い薄膜が形成
・既設の真空チャンバーへ後付けも可能

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基本情報BS-80020CPPS プラズマソース

【仕様】
最大放電出力：3.2kW (160V, 20A)
放電ガス(Ar)：8～20mL/min

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価格情報	お問い合わせください。
価格帯	1000万円 ~ 5000万円
納期	お問い合わせください ※配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	BS-80020CPPS
用途／実績例	【用途】プラスチックや有機フィルムへの成膜プラズマアシスト蒸着）や表面改質