BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃アズサイエンス

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。

〇特長
・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化
・反応性蒸着可能
・大面積へハイレートで成膜が可能
・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能

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基本情報BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

【仕様】
最大放電出力：6kW (160V, 38A)
動作圧力：1×10-2～1×10-1 Pa (Ar、O2、N2雰囲気中)

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価格情報	お問い合わせください。
価格帯	1000万円 ~ 5000万円
納期	お問い合わせください ※配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	BS-80011BPG
用途／実績例	【用途】プラズマアシスト蒸着やクリーニング、表面改質