株式会社東レリサーチセンター 技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価

基本情報技術情報誌 202304-01 エリプソメトリーを用いた薄膜評価

技術情報誌The TRC News「エリプソメトリーを用いた薄膜の光学定数及び膜厚の評価」
【要旨】
分光エリプソメトリーは光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率・消衰係数）や膜厚を評価する手法として知られている。2021年に導入した高速分光エリプソメトリーM-2000UIによる、PVA膜スピンコート直後の経時変化とシリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価について解析例を紹介する。
【目次】
１. はじめに
２. エリプソメトリーについて
３. PVA膜スピンコート直後の経時変化
４. シリコン絶縁膜の傾斜エッチング評価
５. おわりに
【図表】
図1　反射光の偏光状態の変化
図2　PVA膜/熱酸化膜/Si基板の測定解析結果
図3　PVA膜(赤)と熱酸化膜(青)の屈折率の波長分散
図4　スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜の膜厚と屈折率の経時変化
図5　スピンコート後大気下乾燥中のPVA膜中に含まれる水分量の変化
図6　自動エッチング装置から得られる傾斜面
図7　傾斜エッチングした熱酸化膜/Si基板の熱酸化膜の膜厚分布
図8　X=0.45 cmにおけるY軸方向の膜厚変化

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