株式会社FKDファクトリ 多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』
- 最終更新日:2023-12-06 16:24:04.0
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放電操作が容易!RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計
『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した
研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。
据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。
成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカソードに
加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる
成膜ソースを搭載することが可能です。
【特長】
■据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計
■RF電源にオートマッチングを採用しており、放電操作が容易
■2源または3源の同時成膜により、薄膜の機能・性能の微調整が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』
【仕様】
<FRS-HG-2CP260T Sputtering System>
■スパッタ電源:RF300W×2台 オートマッチング仕様
■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード
■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/各種酸化物/各種窒化物
■真空排気系:ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
■真空計:フルレンジゲージ
■ガス流量調整:アルゴン用MFC 50sccm
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途・実績】 ■電子デバイス/固体ナノ構造デバイス/各種センサ/各種電池の開発 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』
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