CHEMFISH TOKYO株式会社 三フッ化窒素 NF3 7783-54-2
- 最終更新日：2024-08-13 14:58:55.0
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三フッ化窒素 NF3 7783-54-2
NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。
NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。
基本情報三フッ化窒素 NF3 7783-54-2
NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。
NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 |
お問い合わせください
※在庫有り |
| 型番・ブランド名 | CHEMFISH |
| 用途／実績例 | NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。 |
取扱企業三フッ化窒素 NF3 7783-54-2
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【製品】 ■電子材料中間体 ■難燃剤 ■電解液添加剤 ■イオン液体 「バッテリグレード」 ■フッ素化合物 /3M 代替品 ■医薬中間体 ■光開始剤 ■ガス ■CVD ALD前駆体 ■委託合成
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