スペクトリス株式会社 マルバーン・パナリティカル事業部 高濃度湿式プロセス粒度分布測定システム
- 最終更新日：2020-02-05 15:14:03.0
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リアルタイムで連続モニタリング。粒子径測定範囲0.1〜1000μ
粒度分布をリアルタイムで連続モニタリング。
高濃度のミネラルスラリーから脂質エマルションまで、
幅広いレンジのプロセスストリームを正確かつ再現できる形で測定。
厳しい条件下でもトラブルのない、連続的なオペレーションが可能です。
【Point】
・インシテック湿式に自動希釈ユニットを組み合わせたタイプ。
・高濃度サンプルも自動希釈が可能
・有機溶媒対応
・防爆仕様対応可能
・24時間稼働、防爆エリアなど厳しい環境下での使用も可能
基本情報高濃度湿式プロセス粒度分布測定システム
≪特長≫
◆正確
・粒子径測定範囲:0.1〜1000μm
・毎秒4回の完全な粒度分布測定
◆頑丈
・年間100万回以上の測定が可能
・耐圧（11bar）
◆簡単
・工具を使わず簡単組み立て
・クリーニングが簡単
| 価格情報 | - |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | Insitec LPS |
| 用途／実績例 | ◎ダウンロードより、詳細な資料をご覧になれます。 ご興味のある方はどうぞお読みください。 |
カタログ高濃度湿式プロセス粒度分布測定システム
取扱企業高濃度湿式プロセス粒度分布測定システム
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東京と神戸を拠点に国内計6ヶ所の営業所、２ヶ所のアプリケーションラボラトリにて、粒子計測・X線分析装置の販売やサービス、サポート業務をはじめ、各種セミナーなどのイベントも行っています。
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