除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

KVSストレーナー/W.KVNストレーナー

サイズは定尺4mで、口径200/250/300Aの3タイプ！井戸の現場…

『KVSストレーナー』は、腐蝕に強い塩ビ管丸穴ストレーナと、強度が有り、 取水性能の高いステンレス巻線Vスロット型スクリーンの2つを合体させた ハイブリッド・スクリーンです。 両者の特性を持つため、さまざまな水井戸に使用可能。特に、高い孔明率、 集水性能が要求される地層や、揚砂、電蝕、金気・水質対応が必要な井戸で、 高い効果を発揮します。 また、二重ケーシング用の「W.KVNス...

メーカー・取り扱い企業： ジオテクサービス株式会社