• MOE抗体設計アプリケーション 製品画像

    MOE抗体設計アプリケーション

    PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…

    近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス

  • ベンチスケールの連続回転ろ過機 mini CURUPO 製品画像

    ベンチスケールの連続回転ろ過機 mini CURUPO

    PR【新製品】商用スケールの連続回転ろ過機CURUPOのコンセプトを活かし…

    mini CURUPO(ミニクルポ)は『トップチャージによる液供給』を 特長とするベンチスケールの連続ろ過機です。 小型ながら密閉性に優れたケーシング内でろ過からケーキ剥離まで 一連のろ過サイクルを切れ目なく自動で行います。 少量のサンプルで検証した連続生産プロセスを商用スケールの CURUPOにそのまま適用できるため、 治験・サンプル供与ステージから量産へのスケールアップも ス...

    メーカー・取り扱い企業: 三菱化工機株式会社 産業機械

  • スケール防止剤『Genesys SI』 製品画像

    スケール防止剤『Genesys SI』

    高シリカの原水に対応するスケール防止剤!

    『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられるシリカ濃度の高い水用 として使用できるスケール防止剤です。 一般的な無機のスケールにも広範囲に使用可能。 炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどにも有効です。 また、優れたスケール防止効果で理想的な回収率での設計、運転...

    メーカー・取り扱い企業: エイエムピー・アイオネクス株式会社

  • スケール防止剤『Genesys LF』 製品画像

    スケール防止剤『Genesys LF』

    広く効果を発揮する万能型スケール防止剤!

    『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられる広範囲に使用できる スケール防止剤です。 無機のスケール防止に有効。 特に、炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止します。 また、膜の洗浄や交換頻度を減少させる事ができ、優れたスケール防止効果で 理想的な...

    メーカー・取り扱い企業: エイエムピー・アイオネクス株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0617_orionkikai_300_300_2045050.jpg

PR