除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

省エネ・省コストで湿度処理が可能な除湿給気ユニット『エコサラ』

PR『エコサラ』は、ゼロエネルギーの予冷と再熱で省エネを実現。サラっとした…

『エコサラ』は、エネルギーゼロで予冷と再熱を行う除湿給気ユニットです。 冷却除湿で要するエネルギーを削減できるほか、再熱用温熱源（温水や電気ヒータなど）が不要で 省エネを実現しながらサラっとした空気で室内環境を快適にします。 食品工場で一次エネルギー消費量を78％削減した事例もございます（本例の投資回収年数は2.5年）。 換気のために、大量の外気を取り入れる施設にも適した製品です。 2021年...

メーカー・取り扱い企業： 三建設備工業株式会社

電子顕微鏡用液体ヘリウム冷却装置

トランスファーチューブはオリジナルの3重管式を採用！ヘリウムの消費量を…

【仕様】 ■保障最低到達温度：15K以下（実績4.5K） ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：15K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約60分 　（高倍率で長時間の定点温度測...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

液体ヘリウム連続フロークライオスタット

フォトルミネッセンス測定や光半導体の評価など光学的測定をサポートします…

【仕様】 ■最低到達温度：4.2K以下 ■冷却方式：液体ヘリウム（オプションユニットで液体窒素使用可能） ■温度コントロール範囲：4.2K～300K ■温度コントロール精度：設定温度に対して±0.1K以内 ■冷却時間：最低到達温度まで約40分 ■サンプル交換方式：真空ブロ...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所