• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 酸素濃度制御装置『GCTR SERIES』 製品画像

    酸素濃度制御装置『GCTR SERIES』

    圧縮空気の注入量を自動制御!一定濃度の酸素ガスを供給する場合に非常に有…

    『GCTR SERIES』は、窒素ガスに圧縮空気を注入することで、窒素ガス中の 酸素濃度を設定した濃度に制御することが可能です。 混合後の酸素濃度を監視し、圧縮空気の注入量を自動制御することで、 設定した酸素濃度を保ちます。 例えば、残留酸素濃度の数値設定が不可能な窒素ガス発生装置などを用いて、 一定濃度の酸素ガスを供給する場合に非常に有効な装置です。 材料製造工程での酸化...

    メーカー・取り扱い企業: コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

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