除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

窒素ガス発生装置専用オプションタンク 「GST-0205M」

N2 GENESIS 200から発生させた窒素ガスを蓄え可動時間を抑え…

本機は窒素ガス発生装置【N2 GENESIS 200】専用オプションです。 本機は装置内に小型圧力容器を装備しており、N2 GENESIS 200から発生させた窒素ガスを蓄えることが可能です。 N2 GENESIS 200と接続相手先（例えばマルチガスインキュベーターMG-71Mなど）との間に本機を介すことで、装置内圧力容器に蓄えられた窒素を供給することが可能になり、蓄えられた窒素ガスを...

メーカー・取り扱い企業： タイテック株式会社