リアルタイム放射率補正型半導体プロセス温度モニター

半導体プロセス中の対象ウエハの放射率をリアルタイムに測定し補正を行うた…

半導体プロセス中のウエハ温度のモニタリングは非常に重要なプロセス・パラメータですが、今まで適切な測定方法が確立できていないために、温度以外のパラメータでプロセス状況を推測してきました。 ウエハ放射率にはロット内でばらつきがあるにも関わらず、一般の放射温度計では測定対象物の放射率をユーザーが適当に決めなければならないため、温度誤差が発生し、温度測定自体の信頼性が乏しいことがその理由でした。 弊...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム